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品質(zhì)是生命,服務是宗旨

Quality is life, service is the tenet

網(wǎng)站首頁  ◇  產(chǎn)品展示    ◇  CVD化學氣相沉積系統(tǒng) ◇   CVD石墨烯制備
  1. 小型卷對卷連續(xù)生長CVD設備

    主要適用于粉末材料在高溫條件下熱處理或者粉末材料的表面材料生長,該回轉(zhuǎn)加熱系統(tǒng)集控制系統(tǒng)與爐膛為一體。爐膛使用高純氧化鋁纖維材料,采用電阻絲為加熱元件。加熱系統(tǒng)設計為上下可開啟式結(jié)構(gòu),方便觀察石英管以及物料的狀態(tài)。

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  2. 薄膜材料制備

    薄膜材料制備廣泛用于:真空或氣氛燒結(jié)、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境。該設備技術(shù)成熟、質(zhì)量可靠,溫場均勻,結(jié)構(gòu)合理,法蘭以卡箍密封,安裝拆卸簡便快捷,是各大材料實驗室的理想設備之一。

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  3. PECVD

    PECVD化學氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)一款多路質(zhì)量流量計控制系統(tǒng),其質(zhì)量流量計和不銹鋼混氣罐都安裝在一個移動柜里,移動柜Z大可以承重1000Lbs,所以在與本公司大多數(shù)管式爐配套使用時,可將設備置于移動柜上以節(jié)約空間。

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